¼±Åà - È»ìǥŰ/¿£ÅÍŰ
´Ý±â - ESC
KMLE °Ë»ö
°Ë»ö ¼³Á¤
¿Â¶óÀÎ ÀÇÇмÀû
ÀÇÇпë¾î »çÀü
ÀÇÇоà¾î
ÀÇÇлçÀü
ÇÑ¿µ/¿µÇÑ»çÀü
¿µ¿µ»çÀü
»çÀÌÆ® ¼Ò°³
Àç°Ë»ö
"electron optical axis"¿¡ ´ëÇÑ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î ¼¼ºÎ °Ë»ö °á°úÀÔ´Ï´Ù
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
15
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
source-axis distance, SAD
¼±¿øÃà°£°Å¸®
transverse axis
ȾÃà(üôõî), ÁÖÃà(ñ«õî).
vertical axis
¼öÁ÷Ãà(á÷òÁõî).
visual axis
½ÃÃà(ãÊõî)
visual axis
½ÃÃà(ãÊõî), ½Ã¼±(ãÊàÊ).
auger electron
¿ÀÁ¦ÀüÀÚ
electron
ÀüÀÚ
electron
ÀüÀÚ(ï³í)
electron affinity
ÀüÀÚģȷÂ(¡öÑûúæ³).
electron avalanche
ÀüÀÚ»çÅÂ(¡ÞÞ÷À).
electron beam
ÀüÀÚ¼±(ï³íàÊ).
electron beam contamination
ÀüÀÚ¼±¿À¿°
electron beam flatness
ÀüÀÚ¼±ÆíÆòµµ
electron beam performance
ÀüÀÚ¼±¼º´É
electron beam symmetry
ÀüÀÚ¼±´ëεµ
ÀÌÀü
´ÙÀ½
ÀÌ ¾Æ·¡ ºÎÅÍ´Â °á°ú°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
8
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
ÅëÇÕ°Ë»ö ¿Ï·á
ÀÌÀü
´ÙÀ½