¼±Åà - È»ìǥŰ/¿£ÅÍŰ
´Ý±â - ESC
KMLE °Ë»ö
°Ë»ö ¼³Á¤
¿Â¶óÀÎ ÀÇÇмÀû
ÀÇÇпë¾î »çÀü
ÀÇÇоà¾î
ÀÇÇлçÀü
ÇÑ¿µ/¿µÇÑ»çÀü
¿µ¿µ»çÀü
»çÀÌÆ® ¼Ò°³
Àç°Ë»ö
"beam splitting"¿¡ ´ëÇÑ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î ¼¼ºÎ °Ë»ö °á°úÀÔ´Ï´Ù
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
15
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
beam softening (effect)
ºö¿¬ÈÈ¿°ú
beam spoiler
ºö½ºÆ÷ÀÏ·¯
beam width
À½¼ÓÆø (ëåáÖøë)
beam width
¼ÓÆø
beam width artifact
À½¼ÓÆø Çã»ó (ëåáÖøë úÈßÀ)
beam width artifact
¼ÓÆø Àΰø¹°
beam-modifying device
ºöº¯°æ (Á¶Àý) ±â±¸
convergent beam
ÁýÇÕ±¤¼±(â¥Ö°ÎÃáÖ).
corpuscular beam
ÀÔÀÚ¼±(í£íàÊ).
divergent beam
È®»êºö
divergent beam
°³»ê ±¤¼Ó
double-beam spectrophotometer
ÀÌÁß¼±ºÐ±¤°è
electron beam
ÀüÀÚ¼±(ï³íàÊ).
electron beam contamination
ÀüÀÚ¼±¿À¿°
electron beam flatness
ÀüÀÚ¼±ÆíÆòµµ
ÀÌÀü
´ÙÀ½
ÀÌ ¾Æ·¡ ºÎÅÍ´Â °á°ú°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
4
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
ÅëÇÕ°Ë»ö ¿Ï·á
ÀÌÀü
´ÙÀ½