¼±Åà - È»ìǥŰ/¿£ÅÍŰ
´Ý±â - ESC
KMLE °Ë»ö
°Ë»ö ¼³Á¤
¿Â¶óÀÎ ÀÇÇмÀû
ÀÇÇпë¾î »çÀü
ÀÇÇоà¾î
ÀÇÇлçÀü
ÇÑ¿µ/¿µÇÑ»çÀü
¿µ¿µ»çÀü
»çÀÌÆ® ¼Ò°³
Àç°Ë»ö
"beam alignment"¿¡ ´ëÇÑ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î ¼¼ºÎ °Ë»ö °á°úÀÔ´Ï´Ù
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
4
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ultrasonic beam
ÃÊÀ½ÆÄºö, ÃÊÀ½ÆÄ¼Ó
wedged beam
½û±âºö
x-ray beam flatness
X¼±ºöÆíÆò
x-ray beam performance
X¼±ºö¼º´É
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
7
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
x-ray beam flatness
¿¢½º¼±ºöÆíÆò
mixed beam irradiation
È¥ÇÕºöÁ¶»ç
moving beam irradiation
À̵¿ºöÁ¶»ç
opposite-beam interpolation
´ëÇâºöº¸¿Ï¹ý, ¸Â¼¶ºöº¸¿Ï¹ý
stereotactic external-beam irradiation
Á¤À§¿ÜºÎÁ¶»ç
lateral beam spread
°¡ÂÊÀ½¼ÓÈ®»ê
x-ray beam performance
¿¢½º¼±ºö¼º´É
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
15
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
beam width
À½¼ÓÆø (ëåáÖøë)
beam width
¼ÓÆø
beam width artifact
À½¼ÓÆø Çã»ó (ëåáÖøë úÈßÀ)
beam width artifact
¼ÓÆø Àΰø¹°
beam-modifying device
ºöº¯°æ (Á¶Àý) ±â±¸
convergent beam
ÁýÇÕ±¤¼±(â¥Ö°ÎÃáÖ).
corpuscular beam
ÀÔÀÚ¼±(í£íàÊ).
divergent beam
È®»êºö
divergent beam
°³»ê ±¤¼Ó
double-beam spectrophotometer
ÀÌÁß¼±ºÐ±¤°è
electron beam
ÀüÀÚ¼±(ï³íàÊ).
electron beam contamination
ÀüÀÚ¼±¿À¿°
electron beam flatness
ÀüÀÚ¼±ÆíÆòµµ
electron beam performance
ÀüÀÚ¼±¼º´É
electron beam symmetry
ÀüÀÚ¼±´ëεµ
ÀÌÀü
´ÙÀ½
ÀÌ ¾Æ·¡ ºÎÅÍ´Â °á°ú°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú :
0
ÆäÀÌÁö:
3
¿µ¹®
ÇѱÛ
ÀÌÀü
ÅëÇÕ°Ë»ö ¿Ï·á
ÀÌÀü
´ÙÀ½