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"beam alignment"¿¡ ´ëÇÑ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î ¼¼ºÎ °Ë»ö °á°úÀÔ´Ï´Ù
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 4 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
  • ultrasonic beam
    ÃÊÀ½ÆÄºö, ÃÊÀ½ÆÄ¼Ó
  • wedged beam
    ½û±âºö
  • x-ray beam flatness
    X¼±ºöÆíÆò
  • x-ray beam performance
    X¼±ºö¼º´É
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 7 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
  • x-ray beam flatness
    ¿¢½º¼±ºöÆíÆò
  • mixed beam irradiation
    È¥ÇÕºöÁ¶»ç
  • moving beam irradiation
    À̵¿ºöÁ¶»ç
  • opposite-beam interpolation
    ´ëÇâºöº¸¿Ï¹ý, ¸Â¼¶ºöº¸¿Ï¹ý
  • stereotactic external-beam irradiation
    Á¤À§¿ÜºÎÁ¶»ç
  • lateral beam spread
    °¡ÂÊÀ½¼ÓÈ®»ê
  • x-ray beam performance
    ¿¢½º¼±ºö¼º´É
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 15 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
  • beam width
    À½¼ÓÆø (ëåáÖøë)
  • beam width
    ¼ÓÆø
  • beam width artifact
    À½¼ÓÆø Çã»ó (ëåáÖøë úÈßÀ)
  • beam width artifact
    ¼ÓÆø Àΰø¹°
  • beam-modifying device
    ºöº¯°æ (Á¶Àý) ±â±¸
  • convergent beam
    ÁýÇÕ±¤¼±(â¥Ö°ÎÃáÖ).
  • corpuscular beam
    ÀÔÀÚ¼±(í£í­àÊ).
  • divergent beam
    È®»êºö
  • divergent beam
    °³»ê ±¤¼Ó
  • double-beam spectrophotometer
    ÀÌÁß¼±ºÐ±¤°è
  • electron beam
    ÀüÀÚ¼±(ï³í­àÊ).
  • electron beam contamination
    ÀüÀÚ¼±¿À¿°
  • electron beam flatness
    ÀüÀÚ¼±ÆíÆòµµ
  • electron beam performance
    ÀüÀÚ¼±¼º´É
  • electron beam symmetry
    ÀüÀÚ¼±´ëεµ
ÀÌ ¾Æ·¡ ºÎÅÍ´Â °á°ú°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
´ëÇÑÀÇÇù Çʼö ÀÇÇпë¾îÁý »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 2 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
¿¾ ´ëÇÑÀÇÇù 3 ÀÇÇпë¾î »çÀü °Ë»ö ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 3
  • ¿µ¹®
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