¼±Åà - È­»ìǥŰ/¿£ÅÍŰ ´Ý±â - ESC

 
"electron diffraction"¿¡ ´ëÇÑ °æºÏ´ëÇб³ Ä¡°ú´ëÇÐ ±¸°­³»°úÇб³½Ç »çÀü ¼¼ºÎ °Ë»ö °á°úÀÔ´Ï´Ù
°æºÏ´ë Ä¡°ú´ëÇÐ ±¸°­³»°ú ±³½Ç »çÀü À¯»ç °Ë»ö °á°ú : 15 ÆäÀÌÁö: 1
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
    ¼³¸í
  • diffraction
    ȸÀý
    ±¤¼±ÀÇ ±¼°î, ¶Ç´Â ±× ±¸¼º ¼ººÐÀÇ ºÐÇØ.
  • electronic diffraction
    ÀüÀÚ È¸Àý
  • X-ray diffraction
    X-¼± ȸÀý
    X¼±À» °áÁ¤Ã¼¿¡ ´ë¸é ³»ºÎ¿¡ ±ÔÄ¢ÀûÀ¸·Î ¹è¿­µÈ ¿øÀÚ°¡ ȸÀýµÇ¾î »óÀ» ¸¸µå´Â Çö»ó. °áÁ¤À̳ª ºÐÀÚÀÇ ±¸Á¶¸¦ ¾Ë¾Æ³»´Â À¯·ÂÇÑ ¹æ¹ýÀÌ´Ù.
  • electron
    ÀüÀÚ
    À½ Àü±âÀÇ ÃÖ¼Ò ´ÜÀ§ ¶Ç´Â ÀÚ±â ÀÔÀÚ. Àý´ë Á¤Àü±â ´ÜÀ§. 4.77*10-10 ¶Ç´Â Àý´ë ÀüÀڱ⠴ÜÀ§ 1.59*10-20 ¿¡ »ó´çÇϸç, ±×ÀÇ Áú·®Àº Àû´çÇÑ ¼Óµµ·Î À̵¿Çϰí ÀÖÀ» ¶§¿¡ ¼ö¼Ò ¿øÀÚÀÇ 1/1845, Áï 9*10-28 ±×·¥ÀÌ´Ù. µµÃ¼ Áß¿¡ È帣´Â ÀüÀÚ´Â Àü·ù·Î¼­, ¹æ»ç¼± ¹°Áú·ÎºÎÅÍ´Â ¥â¼±À¸·Î ¹æÃâµÇ¾î ¿øÀÚÇÙ ÁÖÀ§ÀÇ ±Ëµµ¸¦ ȸÀüÇÏ¿© ±× ¿øÀÚÀÇ Áú·®°ú ¹æ»ç´É ÀÌ¿ÜÀÇ ÀÌÈ­ÇÐÀû ¼º»óÀ» Á¿ìÇÑ´Ù.
  • electron affinity
    ÀüÀÚ Ä£È­·Â
    ¿øÀÚ°¡ ÀüÀÚ 1°³¿Í °áÇÕÇÒ ¶§¿¡ ¹æÃâÇÏ´Â ¿¡³ÊÁö.
  • electron bath
    ÀüÇØÁ¶
  • electron beam microporbe analysis
    ÀüÀÚ±¤ ¹Ì¼¼ Žħ ¿ä¼Ò ºÐ¼®, ÀüÀÚ±¤ ¹Ì¼¼ Žħ ºÐ¼®
  • electron beam therapy
    ÀüÀÚ¼± Ä¡·á
  • electron carrier
    ÀüÀÚ ¿î¹Ýü
  • electron configuration
    ÀüÀÚ ¹èÄ¡
  • electron density
    ÀüÀÚ ¹Ðµµ
    ÀüÀÚÇö¹Ì°æ¿¡¼­ ÀüÀÚÀÇ Åõ°ú¸¦ ¸·À» ¼ö ÀÖ´Â µÎ²² ¶Ç´Â ¹Ðµµ.
  • electron emission
    ÀüÀÚ ¹æÃâ
    ¿øÀÚ¿¡ ¹æ»ç´ÉÀ» ÁÖ´Â ÀüÀÚÀÇ Çϳª.
  • electron hole
    ÀüÀÚ ±¸¸Û
  • electron microprobe analysis
    ÀüÀÚ ¹Ì¼¼ Žħ
  • electron microscopic radioautography
    ÀüÇö¹æ»ç¼± ÀÚ°¡ ±â·Ï¹ý, ÀüÇö ÀÚ±â¹ý
ÀÌ ¾Æ·¡ ºÎÅÍ´Â °á°ú°¡ ¾ø½À´Ï´Ù.
°æºÏ´ë Ä¡°ú´ëÇÐ ±¸°­³»°ú ±³½Ç »çÀü ¸ÂÃã °Ë»ö °á°ú : 0 ÆäÀÌÁö: 1
  • ¿µ¹®
    ÇѱÛ
    ¼³¸í
ÅëÇÕ°Ë»ö ¿Ï·á